Создание современных интегральных микросхем (микросхем с напряжением питания 40, 80 и 120 В) невозможно без применения новых полупроводниковых технологий. Как правило, такие микросхемы создаются по биполярной технологии, имеют толстые (более 13 мкм) эпитаксиальные слои, а для улучшения параметров элементной базы в них используются скрытые слои. Проектные нормы соответствуют уровню 2 мкм, наблюдается тенденция к снижению. Фотолитография выполняется на установках проекционной печати с автоматическим совмещением и экспонированием, например, ЭМ-584АМ (проектные нормы до 1,5 мкм) или ЭМ-5084Б (проектные нормы до 0,8 мкм) производства КБТЭМ-ОМО или на аналогичных установках других производителей. Как правило, на всех предприятиях микроэлектроники в СНГ имеется такое оборудование.выполняться на светодиодах. Одновременно с ростом СД-подсветки ЖК-экранов сокращается число используемых для этого светодиодов в корпусном исполнении. Вместе с тем наблюдается рост рынка СД-систем общего освещения, чему способствуют меры многих правительств по развитию твердотельных средств освещения.

sitemap

Разработка: студия Green Art