Рассмотрены особенности и преимущества наноимпринтной литографии (НИЛ) – перспективного метода формирования наноструктур. Отмечено, что большой потенциал НИЛ подтверждается активной разработкой коммерческих материалов для данного процесса. Один из лидеров в этой сфере – компания micro resist technology, продукты которой рассмотрены в данной статье.

УДК 621.382
ВАК 05.27.06
DOI: 10.22184/1992-4178.2017.164.4.56.60

sitemap

Разработка: студия Green Art