Выпуск #1/2026
А. Соболев
СОВРЕМЕННЫЕ КЛАСТЕРНЫЕ УСТАНОВКИ АЗИАТСКОГО ПРОИЗВОДСТВА ДЛЯ ПРОВЕДЕНИЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ОПЕРАЦИЙ С ТОНКИМИ ПЛЕНКАМИ НА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИНАХ
СОВРЕМЕННЫЕ КЛАСТЕРНЫЕ УСТАНОВКИ АЗИАТСКОГО ПРОИЗВОДСТВА ДЛЯ ПРОВЕДЕНИЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ОПЕРАЦИЙ С ТОНКИМИ ПЛЕНКАМИ НА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИНАХ
Просмотры: 5
DOI: 10.22184/1992-4178.2026.253.1.48.56
В статье представлен обзор различных типов кластерных установок, выпускаемых азиатскими производителями,
для проведения операций с тонкими пленками
на полупроводниковых пластинах. Рассмотрены ключевые параметры кластерного СТО, которые оказывают влияние
на процессы травления, осаждения и напыления тонких пленок.
Теги: магнетронное распыление плазменно-стимулированное осаждение плазменный реактор плазмохимическое травление специальное технологическое оборудование тонкие пленки
Подпишитесь на журнал, чтобы прочитать полную версию статьи.
В статье представлен обзор различных типов кластерных установок, выпускаемых азиатскими производителями,
для проведения операций с тонкими пленками
на полупроводниковых пластинах. Рассмотрены ключевые параметры кластерного СТО, которые оказывают влияние
на процессы травления, осаждения и напыления тонких пленок.
Теги: магнетронное распыление плазменно-стимулированное осаждение плазменный реактор плазмохимическое травление специальное технологическое оборудование тонкие пленки
Подпишитесь на журнал, чтобы прочитать полную версию статьи.
Отзывы читателей
eng




