Электроника НТБ - научно-технический журнал - Материалы тега

главная

eng

Вход

Архив журнала

Журналы

Медиаданные

Редакционная политика

Авторам

Контакты

© 2001-2025
РИЦ Техносфера
Все права защищены
Тел. +7 (495) 234-0110
Оферта

R&W

ISSN 1992-4178(print)
ISSN 1992-4186(online)

Книги по электронике

Тег "plasma etching"

Электроника НТБ #5/2022
Г. Виноградов, К. Медников
XORS‑200А – БАЗОВЫЙ МОДУЛЬ ТРАВЛЕНИЯ ДЛЯ МАСС ОВЫХ ПРОИЗВОДСТВ 65–32 нм

DOI: 10.22184/1992-4178.2022.216.5.42.48 Разработанный компанией АО «НПП «ЭСТО» узкозазорный планарный модуль травления диэлектриков XORS‑200A представляет собой универсальный базовый реактор травления 200 мм для массового кремниевого производства с ключевыми параметрами уровня систем 300 мм и позволяет осуществлять как высокоаспектное травление диэлектриков, так и процессы мультипаттернинга.

Первая миля #8/2021
М.Белокрылов, А. Козлов, Ю.Константинов
ОСОБЕННОСТИ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ НИОБАТА ЛИТИЯ ДЛЯ СОЗДАНИЯ ИНТЕГРАЛЬНО-ОПТИЧЕСКИХ МОДУЛЯТОРОВ С ГРЕБЕНЧАТЫМИ ВОЛНОВОДАМИ

DOI: 10.22184/2070-8963.2021.100.8.62.67 Работа посвящена исследованию особенностей травления поверхности ниобата лития во фторсодержащей плазме с повышенным расходом гексафторида серы и аргона без использования принудительного термостатирования подложкодержателя на установке ЭТНА-100-ПТ-1 с целью разработки технологии создания гребенчатых волноводов и других поверхностных структур. Измерена скорость травления. С помощью сканирующей электронной микроскопии изучена структура протравленной поверхности и сколотый торец образца. Достигнуты высокие скорости травления приповерхностного слоя: от 250 до 950 нм/мин.